烘焙探针捕获的反射只能包含标记为反射探针静态 (Reflection Probe Static) 的场景对象(使用检视面板左上角的静态 (Static) 菜单标记所有对象)。可以使用剔除遮罩 (Culling Mask) 和裁剪面 (Clipping Planes) 属性进一步优化包含在反射立方体贴图中的对象;具体的工作方式与摄像机 (Camera) 的工作方式相同(探针本质上类似于通过旋转观察六个立方体贴图面每一面的摄像机)。
不需要将对象标记为反射探针静态 (Reflection Probe Static) 来捕获它们的反射(就像使用烘焙探针一样)。但是,可以使用剔除遮罩 (Culling Mask) 和裁剪面 (Clipping Planes) 属性在反射立方体贴图中选择性地排除对象;具体的工作方式与摄像机 (Camera) 的工作方式相同(探针本质上类似于通过旋转观察六个立方体贴图面每一面的摄像机)。
要更新探针,请执行以下操作之一:。
烘焙过程将在您继续在编辑器中工作时异步进行。如果在烘焙过程中移动任何静态对象、更改其材质或以其他方式改变其视觉外观,则必须重新烘焙才能查看更新后的结果。
注意:目前,实时探针仅在反射探针静态 (Reflection Probe Static) 对象移动或改变其外观时才会更新在场景 (Scene) 视图中的反射。这意味着,即使移动的动态对象出现在反射中,这些对象也不会触发更新。应该从光照 (Lighting) 窗口的生成光照 (Generate Lighting) 按钮下拉菜单中选择烘焙反射探针 (Bake Reflection Probes) 选项,从而在动态对象改变时更新反射。